生產(chǎn)不同品種的鐵合金，對碳質(zhì)還原劑有不同的要求。現(xiàn)以電熱法生產(chǎn)硅鐵為例，說明一下對碳質(zhì)還原劑的要求：

  1)化學(xué)成分：在碳質(zhì)還原劑化學(xué)成分中，主要應(yīng)該考慮的指標(biāo)是固定碳、灰分、揮發(fā)分和水分。

    固定碳要高，碳質(zhì)還原劑中真正起還原劑作用的是固定碳。固定碳越高，還原同樣數(shù)量的硅石所需消耗的還原劑就越少。

    碳質(zhì)還原劑消耗量越少，由還原劑帶人爐內(nèi)的雜質(zhì)也就越少。因此，希望碳質(zhì)還原劑的固定碳要高。一般要求冶金焦的固定碳大于82％。對于一些物理性能優(yōu)良的碳質(zhì)還原劑來說，固定碳允許略低些；灰分要低，碳質(zhì)還原劑的灰分主要由A1203、CaO、si02等難熔氧化物所組成，其中A1203占相當(dāng)大的比例。碳質(zhì)還原劑灰分高，易使?fàn)t內(nèi)料面渣化燒結(jié)，影響料面透氣性。

    碳質(zhì)還原劑中的灰分，還是電爐渣量增加、爐渣變黏的重要原因。爐內(nèi)渣量增加，爐渣變黏，難以排出，將使?fàn)t況惡化，電能和原料消耗增加。同時硅鐵中有相當(dāng)一部分鋁和磷，來源于灰分中的A1203和P205，因此，碳質(zhì)還原劑灰分高低會嚴(yán)重影響硅鐵質(zhì)量和技術(shù)經(jīng)濟指標(biāo)，因此，要求碳質(zhì)還原劑灰分越低越好，一般要求焦炭中灰分含量小于14％，P2()5含量小于0．04％；

    揮發(fā)分不予限制，碳質(zhì)還原劑中碳元素除以固定碳狀態(tài)存在外，尚有部分碳以碳氫化合物(揮發(fā)分)的形式存在。揮發(fā)分高的碳質(zhì)還原劑，一般來說機械強度低，同時在加熱過程中揮發(fā)分易于揮發(fā)外逸，從保證碳質(zhì)還原劑有高的固定碳和一定機械強度這一角度考慮，應(yīng)要求碳質(zhì)還原劑的揮發(fā)分低些。但考慮到揮發(fā)分高的還原劑，其比電阻通常都高，而這一點對鐵合金冶煉又是十分重要的、有利的，因此，對碳質(zhì)還原劑的揮發(fā)分一般都不予限制；

    水分要低，碳質(zhì)還原劑的水分取決于還原劑的種類、結(jié)構(gòu)、運輸條件和貯藏條件。碳質(zhì)還原劑中水分含量波動，是造成爐況波動和惡化的重要原因。為此，要求碳質(zhì)還原劑中的水分含量要穩(wěn)定，且水分含量小于6％為宜。